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2019新型CRF等離子處理機具有九大優(yōu)勢
發(fā)布時間:2019-02-22  瀏覽:
CRF品牌等離子處理機又稱為等離子表面處理設(shè)備,與傳統(tǒng)有機溶劑的濕法清洗,或傳統(tǒng)使用物理打磨機等清洗,采用等離子技術(shù)的等離子清洗機清洗效果具備以下明顯的優(yōu)勢:

(1)、等離子表面處理機的清洗方式是干式清洗,可以省略干燥處理這個環(huán)節(jié)直接進入下一工序處理,可以大幅提高整個工藝流水線的處理效率。
(2)、使用過程中可遠離有害溶劑對人本傷害,不會向傳統(tǒng)濕法清洗容易洗壞產(chǎn)品。
(3)、具有高效率的特點,整個清洗工藝流程數(shù)秒內(nèi)可完成。
(4)、禁止使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,表面清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,是一種比較環(huán)保清洗方法。
(5)、使用等離子表面處理機,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;
(6)、等離子處理機設(shè)備成本不高,加上處理過程中只需要消耗電,而且功率僅有1000W,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的工藝。
(7)、清洗不分對象,可以處理任何材質(zhì):金屬、半導體、氧化物、是高分子材料都可以使用等離子體來處理。
(8)、完成表面清洗同時還可以改善材料本身的表面性能,如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在眾多應用中都是非常重要的。
(9)、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好

等離子表面處理設(shè)備市場應用越來越廣泛,深受用戶的好評,同時對等離子體清洗技術(shù)的要求也是越來越高。

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